CVD蓝宝石基底单层二硫化钼
货号:101030 编号:XF164
CAS号:1317-33-5 规格:基底尺寸: 6 mmx8 mm
包装:1 盒 保质期:30天
保存条件:常温干燥避光
产品名称
中文名称: CVD蓝宝石基底单层二硫化钼
英文名称:Single Layer MoS2 on sapphire substrate
性质
形态:薄膜
参数
基底:蓝宝石(默认单抛光)
基底尺寸:6 mm*8 mm
片径范围:20-50 μm
厚度:0.6~0.8 nm
应用
先丰纳米最新推出CVD法制备的单层二硫化钼,相比较锂插层制备的单层二硫化钼,该产品具有缺陷少,层数可控,优异的光学性质,是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料,欢迎咨询。
先丰寄语
CVD法制备单层二硫化钼就是在相应的基底上生长,基底上布了很多个这样的三角形单晶晶体。如果想要转移到其他目标基底上,可以参考先丰纳米提供的“类石墨烯材料PS转移方法”。该产品随货会有当批次的光学照片。
单层二硫化钼为直接带隙半导体材料,具有光致发光的特性,是制备光电器件的优选产品。近年来, MoS2的边缘结构被证明具有很强的催化活性, 可以成为理想的电催化剂, 但MoS2表面的催化活性较低, 这限制了其在HER反应中的实际应用. 为了提高MoS2表面的催化活性, 可以通过例如相工程, 引入活性不饱和缺陷, 引入应变等技术对MoS2的基底面进行修饰, 使得MoS2惰性基面拥有很高的催化活性。
其他信息
详情请发邮件至:sale@xfnano.com
江浙沪皖用户邮费为10元,其他地区用户邮费为20, 国际运费请咨询sales@xfnano.com。购买满 500.0 元免运费。如果库存显示为0, 请电话或邮件和销售确认,免费热线电话:400 025 3200邮件:sale@xfnano.com 感谢您的支持!