产品名称

中文名称：Graphene Supermarket铜基六角氮化硼多层薄膜

英文名称：Multilayer h-BN (Boron Nitride) Film grown on Copper Foil: 2" x 1"

产品概述

氮化硼薄膜是一种由交替的硼原子和氮原子组成的二维材料，具有类石墨烯的蜂巢晶格结构。它继承了氮化硼块体材料的优异性能，包括力学、电学、热学和光学性能，并且由于其特殊的二维结构，拥有更多的特性和更广泛的应用前景。CVD法是通过将含有硼和氮元素的气体或蒸汽引入反应室，在衬底表面发生化学反应，从而沉积出氮化硼薄膜。这种方法可以在较低的温度下实现高密度、高质量的薄膜沉积，并且可以通过调整反应条件来控制薄膜的厚度、结晶度和形貌。

技术参数

Close to complete coverage (90-95%), with some minor holes

Average Thickness of BN film is 13 nm

Thickness of the copper foil is 20 microns

Quality is confirmed by TEM. TEM shows perfect hexagonal structure.

产品特点

优异的绝缘性能：氮化硼本身就是一种良好的电绝缘体，CVD制备的氮化硼膜继承了这一特性，其电阻率非常高。

良好的热稳定性和高导热性：CVD氮化硼膜在高温下仍能保持结构和性能的稳定。具有较高的热导率，大约在几十到几百W/(m·K)之间（具体数值会因膜的质量和结构等因素有所不同）。这种高导热性使其能够有效地将热量从发热源传导出去，在散热应用中具有重要价值。

化学稳定性：CVD氮化硼膜对大多数化学物质具有惰性，不易与酸、碱、有机溶剂等发生化学反应。

表面平整度高：通过CVD方法制备的氮化硼膜通常具有较为光滑和平整的表面。

成分纯净度较高：通过CVD方法可以制备出相对纯净的氮化硼膜，杂质含量较低。这有助于充分发挥氮化硼材料本身的优良性能，减少因杂质引起的性能缺陷。

应用领域

电子器件：氮化硼薄膜具有良好的绝缘性能和高温稳定性，可用于电子器件的隔离层和热管理应用。

光学器件：氮化硼薄膜在可见光和紫外光区域具有良好的透过性，可用于光学器件和光学涂层。

热界面材料：由于其优异的热导性能，氮化硼薄膜可用于制备热界面材料和散热器。

纳米机械系统：氮化硼薄膜具有良好的机械强度和化学稳定性，适用于纳米机械系统的制造。

其他信息
如您想了解更多产品详情，可拨打电话400-025-3200，您也可以发送邮件到sale@xfnano.com咨询

原链接：https://www.graphene-supermarket.com/products/multilayer-h-bn-boron-nitride-film-grown-on-copper-foil-2-x-1?_pos=1&_sid=1bc56ed4c&_ss=r